按功能，偏光片可以分为：透射式偏光片、反射式偏光片、半透过半反射式偏光片、补偿型偏光片。
按染色方法，偏光片可以分为：
·碘系偏光片：容易获得高透过率、高偏振度的光学特性，但耐高温高湿的能力较差。
·染料系偏光片：不容易获得高透过率、高偏振度的光学特性，但耐高温高湿的能力较好。
目前偏光片生产技术以PVA膜的延伸工艺划分，有干法和湿发两大类；以PVA膜染色方法划分，有染料系和碘染色两大类。
偏光片的干法生产技术是指PVA膜是在具有一定温度和湿度条件的蒸汽环境下进行延伸的工艺方法，早期使用这种工艺方法的目的，是可以提高工艺的生产效率，使用幅宽较大的PVA膜进行生产而不至于经常断膜。但这种工艺的局限性在于PVA膜在延伸过程中的均匀性受到限制，因此所形成的偏光片原膜的复合张力、色调的均匀性和耐久性不易稳定，因而在实际生产工艺中应用较少。
偏光片的湿法生产技术是指PVA膜是在一定配比的液体中进行染色、拉伸的工艺方法。这种工艺方法早期的局限性在于PVA膜在液体中延伸的稳定控制难度较大，因此使用这种工艺加工时PVA膜容易断膜，且PVA膜的幅宽受到限制。但随着工业控制技术的改进，这些湿法加工工艺的局限性已经得到极大的改进，从20世纪90年代末起，日本偏光片企业已经普遍采用幅宽1330㎜的TAC膜用湿法工艺进行偏光片的生产。特别是由于大尺寸TFT-LCD产品的大规模普及，为提高偏光片产品的利用率，以1330㎜为基本宽度的偏光片生产已经成为液晶用偏光片生产的基本方法。
偏光片生产工艺中的染色方法有碘染色法和染料染色法两种工艺。碘染色法是指在偏光片染色、拉伸过程中，使用碘和碘化钾作为二向性介质使PVA膜产生极性化偏光特性。这种染色方法的优点是比较容易获得99.9%以上的高偏光度和42%以上高透过率的偏光特性。所以在早期的偏光材料产品或需要高偏光、高透过特性的偏光材料产品中大多都采用碘染色工艺进行加工。但这种工艺的不足之处就是由于碘的分子结构在高温高湿的条件下易于破坏，因此使用碘染色工艺生产的偏光片耐久性较差，一般只能满足干温：80℃×500HR，湿热：60℃×90%RH×500HR以下的工作条件使用。
但随着LCD产品使用范围的扩大,对偏光产品的湿热工作条件的要求越来越苛刻，已经出现要求在100℃和90%RH条件下工作的偏光片产品需求，对这种工作条件要求，碘染色工艺就无能为力了。为满足这种技术要求，首先由日本化药公司发明了偏光片生产所需的染料，并由日本化药的子公司日本波拉公司生产了染料系的高耐久性偏光片产品。
利用二向性染料进行偏光片染色工艺所生产的偏光片产品，目前最高可以满足干温：105℃×500HR，湿热：90℃×95%RH×500HR以下的工作条件的使用要求。但这种工艺方法所生产的偏光片产品一般偏光度和透过率较低，其偏光度一般不超过90%、透过率不超过40%，且价格昂贵。
