【产通社，3月21日讯】中微半导体设备有限公司（Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.；股票代码：688012）官网消息，其在SEMICON China 2021展会发布了新一代电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo Twin-Star，用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用。

基于中微公司业已成熟的单台反应器的电感耦合等离子体（ICP）刻蚀技术和双台反应器的Primo平台，Primo Twin-Star为电介质前道/后道制程、多晶硅刻蚀、DTI和BSI刻蚀等提供了高性价比的刻蚀解决方案。它的创新设计包括：Primo Twin-Star使用了双反应台腔体设计和低电容耦合3D线圈设计，创新的反应腔设计可最大程度减弱非中心对称抽气口效应，通过采用多区温控静电吸盘（ESC）增强了对关键尺寸均匀性和重复性的控制。

凭借这些优异的性能和其他特性，与其他同类设备相比，Primo Twin-Star以更小的占地面积、更低的生产成本和更高的输出效率，进行ICP适用的逻辑和存储芯片的介质和导体的各种刻蚀应用，并用于功率器件和CMOS图像传感器（CIS）的刻蚀应用。由于Primo Twin-Star反应器在很多方面采取了和单台机Primo nanova相同或相似的设计，在众多的刻蚀应用中，Primo Twin-Star显示了和单台反应器相同的刻蚀结果。这就给客户提供了高质量、高输出和低成本的解决方案。

中微公司的Primo Twin-Star刻蚀设备已收到来自国内领先客户的订单。目前，首台Primo Twin-Star设备已交付客户投入生产，良率稳定。公司还在进行用于不同刻蚀应用的多项评估。Primo Twin-Star设备优化了中微公司电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备产品线。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.amec-inc.com。（张嘉汐，产通发布）    （完）