【产通社，3月21日讯】北方华创科技集团股份有限公司（NAURA Technology Group Co., Ltd.；股票代码：002371）官网消息，其于2021年3月17-19日在上海新国际博览中心举行SEMICON China，展示为集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、微机电系统、化合物半导体、平板显示、新能源光伏等高新领域量身定做的ETCH、PVD、CVD、Furnace、Wet Clean等高端半导体工艺装备及解决方案，展现科技之美。  

演讲题目：三维集成领域设备工艺解决方案
Processes and Equipment Solutions in 3D IC Manufacturing
演讲时间：3月18日 9:20-9:45
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，浦东厅 1+2+3

演讲题目：自我对准图形转换技术在逻辑与记忆体产品的应用
Self alignment multiple patterning solution for logic and memory product
演讲时间：3月19日 10:10 - 10:35
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，浦东厅 1+2+3

演讲题目：热处理工艺及装备在功率半导体中的应用
Heat treatment processes and equipment applications in power Semiconductor
演讲时间：3月18日 15:35-16:00
演讲地点：上海浦东嘉里大酒店，浦东厅大宴会厅 4

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
讲      师：北方华创 林源为 博士
演讲题目：Perspective on Plasma Etching in Advanced Packaging
演讲时间：3月14日 13:30 – 14:00
演讲方式：线上会议 

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
讲      师：北方华创 孔宇威 
演讲题目：Deep and Vertical Polyimide Etching
演讲时间：3月14日 16:20 – 16:35
演讲方式：线上会议

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
讲      师：北方华创 蒋中伟 博士
演讲题目：The Etching Morphology of Silver Study by Inductively CoupledAr-Based Plasmas
演讲时间：3月14日 16:30 – 16:45
演讲方式：线上会议 

Symposium IV: Thin Film, Plating and Process Integration
讲      师：北方华创  孙妍
演讲题目：Developments of Improving STI Formation and Quality by Annealing for 28nm CMOS Technology Node & Beyond
演讲时间：3月14日8:55 – 9:10
演讲方式：线上会议 

SymposiumVII: Packaging and Assembly
讲      师：北方华创 董子晗 
演讲题目：Ashing Process on Warpage Wafer With Low Damage
演讲时间：3月14日 16:05 – 16:20
演讲方式：线上会议 

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.naura.com/index.php/news/news_art/2278.html。（张怡，产通发布）    （完）