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今天是:2022年8月17日 星期三   您现在位于: 首页 →  业界活动 → 现场报道(SEMICON China 21)
北方华创在SEMICON China 2021展示半导体工装备方案
2021/3/21 10:59:19   

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【产通社,3月21日讯】北方华创科技集团股份有限公司(NAURA Technology Group Co., Ltd.;股票代码:002371)官网消息,其于2021年3月17-19日在上海新国际博览中心举行SEMICON China,展示为集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、微机电系统、化合物半导体、平板显示、新能源光伏等高新领域量身定做的ETCH、PVD、CVD、Furnace、Wet Clean等高端半导体工艺装备及解决方案,展现科技之美。  

演讲题目:三维集成领域设备工艺解决方案
Processes and Equipment Solutions in 3D IC Manufacturing
演讲时间:3月18日 9:20-9:45
演讲地点:上海浦东嘉里大酒店,浦东厅 1+2+3

演讲题目:自我对准图形转换技术在逻辑与记忆体产品的应用
Self alignment multiple patterning solution for logic and memory product
演讲时间:3月19日 10:10 - 10:35
演讲地点:上海浦东嘉里大酒店,浦东厅 1+2+3

演讲题目:热处理工艺及装备在功率半导体中的应用
Heat treatment processes and equipment applications in power Semiconductor
演讲时间:3月18日 15:35-16:00
演讲地点:上海浦东嘉里大酒店,浦东厅大宴会厅 4

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
讲      师:北方华创 林源为 博士
演讲题目:Perspective on Plasma Etching in Advanced Packaging
演讲时间:3月14日 13:30 – 14:00
演讲方式:线上会议 

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
讲      师:北方华创 孔宇威 
演讲题目:Deep and Vertical Polyimide Etching
演讲时间:3月14日 16:20 – 16:35
演讲方式:线上会议

Symposium III: Dry & Wet Etch and Cleaning
讲      师:北方华创 蒋中伟 博士
演讲题目:The Etching Morphology of Silver Study by Inductively CoupledAr-Based Plasmas
演讲时间:3月14日 16:30 – 16:45
演讲方式:线上会议 

Symposium IV: Thin Film, Plating and Process Integration
讲      师:北方华创  孙妍
演讲题目:Developments of Improving STI Formation and Quality by Annealing for 28nm CMOS Technology Node & Beyond
演讲时间:3月14日8:55 – 9:10
演讲方式:线上会议 

SymposiumVII: Packaging and Assembly
讲      师:北方华创 董子晗 
演讲题目:Ashing Process on Warpage Wafer With Low Damage
演讲时间:3月14日 16:05 – 16:20
演讲方式:线上会议 

查询进一步信息,请访问官方网站http://www.naura.com/index.php/news/news_art/2278.html。(张怡,产通发布)    (完)
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