【产通社，9月26日讯】上海微电子装备有限公司（SMEE）官网宣布，第22届中国国际工业博览会2020年9月15-19日在国家会展中心（上海）举行。作为国内半导体装备企业代表之一参会（展位号5.2H-E175），SMEE全方位展示了前道光刻机、先进封装光刻机及FPD光刻机等核心设备及工艺技术。

近年来，随着我国半导体行业的快速发展，对上游设备产品及工艺技术提出了更高的要求。此次参展的6代大MASK曝光机主要应用于AMOLED和LCD显示屏的制造，可满足6代产线的各种高精度曝光需求，吸引众多客商关注。

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