【产通社，9月4日讯】默克（Merck KGaA）官网消息，其推出新一代环保精密清洗溶剂产品 - AZ 910去除剂。该系列产品用于半导体芯片制造图形化工艺中清除光刻胶。

默克半导体材料事业部全球负责人Anand Nambiar表示：“这是一种同时具备了环保性和经济性的创新解决方案，将更好地满足下一代半导体制造工艺中精密清洗需求。这款AZ? 910去除剂能够以不到三倍的溶剂用量清除光刻胶，在为晶圆厂节省成本的同时也减少了废料对环境的影响。”


产品特点


光刻胶去除是半导体芯片制造图形化环节中的关键技术，而光刻胶去除剂则是决定图形化最终良率及可靠性的关键材料之一。默克此次推出的“AZ 910去除剂”基于不含有NMP（N-甲基吡咯烷酮）的新型特制化学配方，不仅可以快速溶解残留光刻胶，同时具备超高的经济性、出色的环保性和广泛的适用性。

该创新产品可直接溶解负性和正性光刻胶，而并非像传统NMP清洗剂那样只能将其从晶圆表面剥离。清洗工艺能因此能缩短近一半时间，同时延长相关材料和过滤设备的使用寿命，从而帮助芯片厂商降低总体成本。

高纯度去除剂在芯片制造过程正发挥着十分重要的作用。每当各种材料被转移到硅片上后，都需要将硅片表面不需要的残留物精密清除。随着芯片制造工艺不断微型化，整个行业对更高性能且绿色环保去除剂的需求也在与日俱增。


供货与报价


默克是全球半导体去除剂市场的重要成员之一，其研发的溶剂产品涵盖了半导体光刻工艺的所有步骤。凭借在电子材料领域100多年的专业经验，默克目前为中国大陆100多家芯片制造企业供应着超过150余种材料产品，覆盖其晶圆加工的每一个环节。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.merckgroup.com/subscribe。（张怡，产通发布）    （完）