【产通社，4月28日讯】上海新阳半导体材料股份有限公司（Sinyang Semiconductor Materials；股票代码：300236）2020年年度报告显示，其本报告期研发投入总额8,027.46万元，占本期营业收入的比重为11.57%。其中，半导体业务研发投入占半导体业务的比重为20.60%。

集成电路制造用高端光刻胶项目是本报告期公司研发投入的重点项目之一。公司作为课题单位开展了氮化硅蚀刻液，化学机械研磨后清洗液（PCMP）产品和工艺技术的开发。

在产品研发方面，主要集中于集成电路制造用光刻胶、大马士革电镀添加剂、干法蚀刻清洗液、氮化硅和氮化钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、氟碳粉末涂料等项目，其中大马士革电镀添加剂、氮化硅蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、氟碳粉末涂料项目均取得了突破性的进展。公司原创开发的氮化硅蚀刻液已在客户端实现量产，打破了国外对该产品的技术封锁，同时也标志着公司晶圆制造关键工艺材料的研发能力实现从替代国际同行到引领国际水平的跨越。

本报告期，公司申请发明专利40件，实用新型专利7件。截至报告期末，公司已申请专利275项，其中发明专利139项（已经授权79项），国际发明专利8项。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.sinyang.com.cn。（Donna Zhang，张底剪报）    （完）