（产通社，1月28日讯）力晶半导体宣布与比利时微电子研发中心（IMEC）合作，共同开发32纳米微影技术，以强化该公司在先进内存制程的研发动能。

据了解，IMEC产学合作研发绩效卓著，在半导体领域累积可观的科技能量，目前该中心所从事的研发工作，估计领先业界需求三至十年。因此，IMEC与全球各大企业、大学与重要研究机构组成强大的研发网络，成为影响未来系统科技发展不可或缺的关键伙伴。力晶将与IMEC合作发展先进显影技术的研发，并派遣工程人员赴比利时参与相关的研究项目。

力晶半导体董事长黄崇仁博士指出，由于显影技术微缩至32纳米时，将遇到物理极限，同时研发费用也将倍数成长，因此，联盟合作开发的趋势将会越来越显著。包含英特尔、台积电在内的国际级半导体大厂，以及三星、美光等内存业者，均已和IMEC建立长期的研发合作机制。随着力晶规模成长、技术推进，为避免在先进制程技术开发中缺席，该公司决定与IMEC签约，参与此全球性的产学合作研发网络，期能加速推进制程，进一步发挥力晶的高效率量产优势。

查询进一步信息，请访问http://www.psc.com.tw。