（产通社，12月12日讯）联华电子宣布，推出全方位的65纳米可生产性导向设计（DFM）支持套件。新的DFM设计Enablement套件（DEK）包含通过验证的DFM工具所需的所有模型，可以支持联华电子的65纳米制程技术。联华电子与电子设计自动化领导厂商共同研发DEK，目的是替65纳米制程的客户提供一个便利DFM解决方案。

“大家都了解，使用65纳米制程生产的IC设计在生产上会面临许多挑战，例如制程变异增加与可转印性（printability）快速削减，这通常会导致良率不佳以及无法接受的效能变异，”联华电子全球硅智财支持部门系统架构总长林子声表示。“为了帮助设计公司应付65纳米制程的挑战，联华电子与业界电子自动化领导厂商紧密合作，成功地推出理想的DFM解决方案。”

联华电子的DEK套件65纳米DFM解决方案，由三方面组成：
· 关键区域分析（CAA）：用户可以执行例如金属导线扩散与加密缺陷密度扩张等关键区域优化功能，来改善受缺陷限制的良率（DLY）。
· 化学机械研磨（CMP）：CMP厚度分析，以先进CMP模型为基础的CMP仿真决定厚度变异，并且以补偿时序导向的金属填充。
· 微影模拟检视（LSC）：使用微影仿真工具与加密技术数据，此项工具可分析不同布局的影响，并且辨识潜在的微影热点。

以通过验证的模型为基础，DEK针对电子设计自动化工具提供全方位的支持，包括在混合与比对不同电子设计自动化工具之下，以平台为基础的解决方案与替代设计流程。这项套件包括方便用户使用的图像用户接口（GUI），可以轻松的建立一个DFM设计数据库，包括作为设计参考的应用纪录与验证报告。应用纪录展示工具如何部署在不同的设计流程上。验证报告则透过比较工具的预测值与验证过的数据，展示精确性与效率。

联华电子的DEK套件目前支持益华计算机（Cadence Design Systems）、捷码公司（Magma Design Automation）、明导国际（Mentor Graphics）、Nannor Technologies、Ponte Solutions与新思科技（Sysnopsys Inc.）等领导厂商的电子设计自动化工具。透过联华电子的客服中心或设计支持部门，即可立即取得这项套件。

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