加入收藏
 免费注册
 用户登陆
首页 展示 供求 职场 技术 智造 职业 活动 视点 品牌 镨社区
今天是:2025年5月2日 星期五   您现在位于: 首页 →  技术 → 半导体器件(应用信息)
SJ/T 11290-2003:面向对象的软件系统建模规范:概念与表示法
2007/2/10 11:29:24    产通学院,365PR

标准号:  SJ/T 11290-2003
标准名称:  面向对象的软件系统建模规范 第1部分:概念与表示法
英文名称:  Specification of object-oriented software system modeling--Part 1:Concept and notation
国际分类:  ICS35.080
中国标准分类:  L77
发布日期:  04/06/2003
实施日期:  01/10/2003
标准状态:  有效
替代标准:   
摘要:  本标准定义了面向对象分析与面向对象设计所需要的概念及表示法。本标准适用于面向对象的软件分析、设计、编程、测试和维护。

如需购买相关标准,请与中国电子技术标准化研究所联系,网址:www.cesi.ac.cn, 联系电话010-84028464

→ 『关闭窗口』
 dav
 [ → 我要发表 ]
上篇文章:SJ/T 11291-2003:软件系统建模规范第3部分:文档编制
下篇文章:SJ/T 11288-2003:电子设备用固定电感器 第2-1部分
→ 主题所属分类:  半导体器件 → 应用信息
 热门文章
 如何申请EtherCAT技术协会(ETG)会员资格 (184265)
 台北国际计算机展(COMPUTEX 2015)参展商名… (106019)
 上海市集成电路行业协会(SICA) (94077)
 USB-IF Members Company List (84421)
 第十七届中国专利优秀奖项目名单(507项) (76304)
 苹果授权MFi制造商名单-Authorized MFi Lic… (70151)
 台北国际计算机展(COMPUTEX 2015)参展商名… (69443)
 中国130家太阳能光伏组件企业介绍(3) (56571)
 PLC论坛 (53351)
 中国130家太阳能光伏组件企业介绍(2) (49901)
 最近更新
 一本面向设计工程师精心修订和更新的《ESD应用手册… (3月10日)
 表皮电子学的代表作:石墨烯纹身 (2月26日)
 在晶圆级大规模生产中引入脉冲激光沉积(PLD)技术 (1月21日)
 你听说过PiezoMEMS技术吗? (1月21日)
 旨在挑战EUV的纳米压印光刻技术(Nanoimprint L… (1月3日)
 新UV光刻机专利显著提高能效并降低半导体制造成本 (11月6日)
 将GaN极性半导体晶圆的两面用于功能器件 (9月30日)
 驱动增强终端侧生成式AI体验的技术:LoRA (6月11日)
 AI TOPS和NPU性能指标指南 (6月11日)
 驱动增强终端侧生成式AI体验的技术:多模态生成式AI (6月11日)
 文章搜索
搜索选项:            
  → 评论内容 (点击查看)
您是否还没有 注册 或还没有 登陆 本站?!
关于我们 ┋ 免责声明 ┋ 产品与服务 ┋ 联系我们 ┋ About 365PR ┋ Join 365PR
Copyright @ 2005-2008 365pr.net Ltd. All Rights Reserved. 深圳市产通互联网有限公司 版权所有
E-mail:postmaster@365pr.net 不良信息举报 备案号:粤ICP备06070889号