加入收藏
 免费注册
 用户登陆
首页 展示 供求 职场 技术 智造 职业 活动 视点 品牌 镨社区
今天是:2025年5月2日 星期五   您现在位于: 首页 →  技术 → 通信网络(技术聚焦)
TD- LTE
2008/11/19 7:30:15    

TD-LTE是LTE(长期演进)的时分双工版本。这是现有TD-SCDMA技术的演进技术,其可实现下行链路资源的高效分配,并可开放可用于LTE的非成对频谱的应用。LTE依靠超越3G HSDPA/HSUPA的3GPP GSM演进道路,其旨在以低于3G的每数据位成本提供更高的数据速度。

TD- LTE目标是当在20MHz频谱分配中运行,并且在下行链路中上升到可实现最高类别UE的300Mbps峰值速率时,使数据速率在下行链路上超过100Mbps,在上行链路上超过50Mbps。LTE技术还将确保速度高达120km/h的高性能以及在速度高达350km/h的蜂窝网络中实现移动性支持。

除更高的数据速率外,另一个目标是实现广域范围。对于5km信元至30km信元以及最长100km信元,必须实现吞吐量、效率及移动性目标。

此外,通过在具有较小IP分组的上载情况下使数据平面延迟小于5ms,这一目标还将实现更短的延迟。

→ 『关闭窗口』
 pr_room
 [ → 我要发表 ]
上篇文章:Bluetooth SIGnature Magazine(蓝牙季刊)
下篇文章:CTIA:美国移动通信行业协会
→ 主题所属分类:  通信网络 → 技术聚焦
 热门文章
 如何申请EtherCAT技术协会(ETG)会员资格 (184265)
 台北国际计算机展(COMPUTEX 2015)参展商名… (106019)
 上海市集成电路行业协会(SICA) (94077)
 USB-IF Members Company List (84421)
 第十七届中国专利优秀奖项目名单(507项) (76304)
 苹果授权MFi制造商名单-Authorized MFi Lic… (70151)
 台北国际计算机展(COMPUTEX 2015)参展商名… (69443)
 中国130家太阳能光伏组件企业介绍(3) (56571)
 PLC论坛 (53351)
 中国130家太阳能光伏组件企业介绍(2) (49901)
 最近更新
 一本面向设计工程师精心修订和更新的《ESD应用手册… (3月10日)
 表皮电子学的代表作:石墨烯纹身 (2月26日)
 在晶圆级大规模生产中引入脉冲激光沉积(PLD)技术 (1月21日)
 你听说过PiezoMEMS技术吗? (1月21日)
 旨在挑战EUV的纳米压印光刻技术(Nanoimprint L… (1月3日)
 新UV光刻机专利显著提高能效并降低半导体制造成本 (11月6日)
 将GaN极性半导体晶圆的两面用于功能器件 (9月30日)
 驱动增强终端侧生成式AI体验的技术:LoRA (6月11日)
 AI TOPS和NPU性能指标指南 (6月11日)
 驱动增强终端侧生成式AI体验的技术:多模态生成式AI (6月11日)
 文章搜索
搜索选项:            
  → 评论内容 (点击查看)
您是否还没有 注册 或还没有 登陆 本站?!
关于我们 ┋ 免责声明 ┋ 产品与服务 ┋ 联系我们 ┋ About 365PR ┋ Join 365PR
Copyright @ 2005-2008 365pr.net Ltd. All Rights Reserved. 深圳市产通互联网有限公司 版权所有
E-mail:postmaster@365pr.net 不良信息举报 备案号:粤ICP备06070889号