【产通社，3月28日讯】盛美半导体设备（上海）股份有限公司（ACM Research, Inc）官网消息，其在上海新国际博览中心举行的SEMICON China 2021的3659号展位上展示立式炉系统：300mm Ultra Fn立式炉干法工艺设备产品系列。

SiN LPCVD立式炉增加了心的半导体制造工艺：非掺杂的多晶硅沉积、掺杂的多晶硅沉积、栅极氧化物沉积、高温氧化和高温退火。该可配置的系统设计，与盛美现有的氧化物、氮化物沉积系统大部分硬件可通用，从而降低了总成本。 该系统可便捷地更换组件，以实现不同客户的定制化工艺需求。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.acmrcsh.com.cn/forefront.html?CatalogId=86。（张怡，产通发布）    （完）