【产通社，7月26日讯】苏州苏大维格光电科技股份有限公司（SVG Optronics；股票代码：300331）官网消息，在6月27日于上海新国际博览中心开幕的半导体盛会SEMICON China 2020，其展出了系列光刻方案：
先进的SLM+PLM组合光学架构
·基于高精度DMD的SLM空间光调制激光直写和PLM位相调制
·支持500nm分辨率的任意图形和100nm的特征图形光刻

海量数据处理全尺寸覆盖
·最大支持110”数据处理
·SLM空间光调制，数据处理速率达30000帧/秒
·PLM位相调制，数据处理速率达30000帧/秒

频闪平铺光斑曝光
·运行效率比传统采用Scanning的激光直写系统提高数倍以上
·多写入模式（频闪光斑平铺曝光、灰度曝光、拖曳扫描和矢量扫描）的选择能够针对
·不同的应用需求优化图形与微结构的性能

3D导航飞行曝光
·3D导航:Z轴驱动分辨率20nm、行程:20mm，保障大幅面基板微纳图形聚焦
·4轴同时曝光：通过纳秒时序(10ns-30ns),匹配位置,在高速运行中曝光,达500mm/s
·重叠曝光：实现了深纹微结构

光刻设备是半导体制造环节的核心设备之一。秉承“直写，让光刻变得更简单”的理念，苏大维格集团始终立足市场需求，不断实现突破。自主研发的图形化直写系统，应用空间光调制（SLM）技术和位相调制（PLM）技术，实现亚微米直写光刻。在应用中省去了繁琐的掩膜加工步骤，满足多样化客户的不同需求，解决了客户因修改图形等待掩膜而无法进行实验的烦恼。支持2-65英寸的写入面积，为专门集成电路、平板显示、微机电系统等需要进行掩膜和微结构图形快速制造的应用场景提供了完美的解决方案。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.svgoptronics.com/。（Lisa WU, 365PR Newswire）    （完）