【产通社，3月6日讯】上海微电子装备有限公司（SMEE）官网消息，其于2月22日-26日参加了国际光学工程学会（SPIE）举办的先进光刻会议。会议期间，参会团队就极紫外光刻、光学光刻、测量及工艺过程控制、先进光刻技术的转移应用等领域，与业内技术领先的公司和专家进行了深入的交流和讨论。

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