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联电以IBM FinFET 3D晶体管技术促进20纳米CMOS制程
2012/6/30 15:00:36     

【产通社,6月30日讯】联华电子(UMC)消息,其已取得IBM所授权的技术,将以FinFET 3D晶体管促进次世代尖端20纳米CMOS制程的开发。双方协议IBM将授权其20纳米设计套件以及FinFET技术给联华电子,联华电子将可运用这些技术,加快推出这些制程给客户采用的时程。

联华电子先进技术开发副总陈一浸博士表示,“对于这次与世界知名技术领导者IBM所进行的协议,我们感到十分高兴。联华电子身为全球晶圆专工领导者,必须掌握先机适时推出尖端制程,以协助客户实现其次世代芯片设计。而借重IBM的专业技术来缩减我们20纳米与FinFET研发周期,将可为联华电子与我们的客户创造双赢。”

联华电子与IBM两家公司的协议内容,包括IBM的20纳米CMOS与FinFET技术。联华电子内部自行研发的20纳米平面(planar)制程,将与IBM的设计规则与制程/组件目标同步,未来联华电子的FinFET技术,将针对行动运算与通讯产品,做为更强化的低耗电技术选项。此项研发将于联华电子位于南科的研发中心进行。

查询进一步信息,请访问官方网站http://www.umc.com

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