【产通社，12月30日讯】应用材料公司（Applied Materials, Inc.）官网消息，其Applied SEMVision G5系统是第一款可供芯片制造商用于无人生产环境的缺陷检测工具，能拍摄并分析20奈米影响良率的缺陷。SEMVision G5独特的功能可识别并拍摄1奈米画素的缺陷，协助逻辑与内存客户改善制程，比过去更快且更正确地找出造成缺陷的根本原因。

应用材料公司企业副总裁暨制程诊断与控制事业处总经理依泰‧罗森费德 (Itai Rosenfeld)表示：“SEMVision G5系统优异的影像功能及全自动的作业方式，提升客户竞争优势，协助他们缩短产品上市的时间，逢此当今快速发展的电子产业中能满足缩短产品周期的需求，至为重要。我们已将多套SEMVision G5系统出货给客户，多家客户也再次采购。客户快速采用这套产品，由此可见产品价值及我们在这项芯片制造关键技术持续三十年的领导地
位。”

产品特点

SEMVision G5系统配备最先进的1奈米画素、无与伦比的影像质量及强大的分析引擎，是唯一的缺陷检测扫描电子显微镜，能够在极其困难的线路层上，一边进行识别、分析及发现缺陷，却同时能提高产出。

另外，这套系统在区别真假警讯或真假缺陷方面树立了全新的标竿，在测试中，这套系统远比专业的操作员更为准确而快速，能让客户更快更常检查更多晶圆，学习曲线更加速、提升良率也更迅速。

突破性的SEMVision G5为开放架构平台，具有已定义之检测策略链接库，可动态结合接收自晶圆检查系统的数据。此系统可自动建立新的检测程序，这是超越其他竞争对手工具的主要优势，因为其他厂商的工具需要以耗时的手动设定程序，针对每一种芯片类型分别建立检测方式。这项功能对于晶圆代工客户至为关键，因为他们必须在每年制造的数千种新芯片设计中达到良好的产能。

供货与报价

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.appliedmaterials.com。