【产通社，4月26日讯】北方华创科技集团股份有限公司（NAURA Technology Group Co., Ltd.；股票代码：002371）官网消息，PVD（物理气相沉积）技术在芯片制造领域扮演着关键角色，特别是在金属薄膜的制备方面。这些金属薄膜作为芯片中互连线的重要组成部分，对整个芯片的性能具有至关重要的影响，每年全球市场容量达到50-60亿美元。

北方华创作为中国PVD工艺装备技术的开拓者，早在2008年就开始了PVD装备的研发工作，经过十六年的技术沉淀与创新突破，已发布多款量产型PVD设备，累计出货超千腔，成为国内PVD设备最大的解决方案提供商。

北方华创PVD事业部自成立以来先后突破了磁控溅射源设计、等离子体产生及控制、腔室设计与仿真模拟、颗粒控制、软件控制等多项关键技术，建立起了核心技术优势，实现了设备的产业化及对逻辑芯片和存储芯片金属化制程的工艺覆盖。截至2023年底，集成电路领域Cu（铜）互连、Al Pad（铝垫层）、Metal Hardmask（金属硬掩膜）、Metal Gate（金属栅）、Silicide（硅化物）等工艺设备在客户端的稳定量产，成为多家客户的基线设备，并均已成为行业优选。其中，Metal Gate（金属栅）PVD产品成功实现了28nm金属栅核心工艺的量产突破；Cu（铜）互连PVD产品支持了Inter Metal（内部互连线）和Top Metal（顶部互连线）工艺的批量生产；Al（铝） PVD产品大批量应用在逻辑、DRAM（动态随机存储器）、3D NAND（闪存）等不同领域，覆盖Pad（铝垫层）、RDL（再布线层）等所有工艺应用。

北方华创PVD设备和工艺解决方案的成功应用，不仅为整个行业提供了稳定、高效的生产保障，更为华创树立了良好的市场声誉，赢得客户信赖和产业界的高度赞誉，并荣获多项北京市科技进步奖。查询进一步信息，请访问官方网站http://www.naura.com。（张怡，产通发布） 
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