【产通社，4月1日讯】Gigaphoton株式会社官网消息，其子最新的ArF浸没式光刻光源“GT80A”已经发货。


产品特点


在最先进设备的制造中，随着规模的扩大，需要高生产率。最新设备必须满足转移到晶片上的光刻图案的要求，特别是EPE（边缘位置误差）和高生产率。作为光源，通过降低直接影响EPE的CD LER/LWR（线边缘粗糙度/线宽粗糙度），GT80A提高了大规模生产场所的产量。

新的浸没式光刻光源“GT80A”通过新开发的模块成功地将重复率提高了12.5%。与GT65A相比，斑点对比度降低了36%，有助于进一步降低LWR/CDU。这些进步有助于进一步提高工艺成品率，并支持前沿节点生产的高生产率。


供货与报价


GT80A已被引入半导体市场，目标是在最先进的工艺节点中实现尖端半导体的稳定和高产率生产。查询进一步信息，请访问官方网站http://www.GIGAPHOTON.com。（张怡，产通发布）     （完）