【产通社，11月17日讯】尼康精机（上海）有限公司（Nikon Corporation）官网消息，其推出了ArF液浸式扫描光刻机NSR-S625E。由于提高了产量和设备运行的稳定性，NSR-S625E实现了尼康半导体光刻设备历史上最高的生产效率，可为各种半导体器件的高效生产做出贡献。


产品特点


随着应用的多样化和半导体需求的增多，客户对半导体曝光系统的要求也变得越来越复杂和精密。尼康坚持通过”伴走”活动，为客户提供量身定制的解决方案。为了满足客户日益多样化的需求，尼康决定通过开发ArF液浸式扫描光刻机NSR-S625E而扩大其光刻机产品范围。

新开发的NSR-S625E是在市场上有着10年销售史的NSR-S622D后继机。它提供相比大约1.3倍的产出量，大大改善了运行稳定性，此外还配有iAS，助力于各种半导体的高效生产。


供货与报价


2024年2月发售。查询进一步信息，请访问官方网站http://www.nikon-precision.com.cn/news/。（张怡，产通发布）    （完）