【产通社，11月8日讯】佳能公司（Canon）官网消息，其推出了一款重要工具，可以帮助制造最先进的半导体。通过该设备，模上的精细电路图案可以忠实地复制在晶片上。因此，复杂的二维或三维电路图案可以在单个压印中形成，这可以降低拥有成本(CoO)。

佳能的NIL技术能够以最小14纳米2的线宽进行构图，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5纳米节点。此外，随着掩模技术的进一步改进，NIL有望实现最小线宽为10nm的电路图案化，这对应于2nm节点。

新产品采用新开发的环境控制技术，抑制设备中的微粒污染。这使得高精度对准成为可能，这对于制造层数增加的半导体和减少由于微粒引起的缺陷是必要的，并且使得能够形成精细和复杂的电路，有助于尖端半导体器件的制造。

由于新产品不需要用于精细电路的特殊波长的光源，因此与目前可用的最先进的逻辑半导体(线宽为15纳米的5纳米节点)的光刻设备相比，它可以显著降低功耗，从而有助于减少CO2。

除了逻辑和其他半导体器件之外，这种新产品还可用于广泛的应用，例如用于XRs的金属透镜，其微结构为几十纳米。查询进一步信息，请访问官方网站http://global.canon/en/news/2023/20231013.html。（Robin Zhang，产通数造）    （完）