【产通社,4月26日讯】深圳市隆利科技股份有限公司(Shenzhen Longli Technology CO.,LTD.;股票代码:300752)消息,其于近日收到由国家知识产权局颁发的三项发明专利证书,详情如下: 量子点膜及其裁切方法及背光模组 授权公告号CN112099268B 专利号ZL202011049328.4 专利申请日2020年09月 29 日 授权公告日2023 年 04月 18 日 直下式发光装置 授权公告号CN112799251B 专利号ZL202011577199.6 专利申请日2020年12月 28 日 授权公告日2023 年 04月 18 日 一种 mura补偿的直下式Mini-LED背光模组 授权公告号CN113281937B 专利号ZL202110459642.8 专利申请日2021年04月 27 日 授权公告日2023 年 04月 18 日 发明专利《量子点膜及其裁切方法及背光模组》提供一种背光模组的量子点膜及其裁切方法,通过自动注胶装置将液态胶注射在量子点膜的裁切边,并进行固化,从而实现量子点膜裁切边的密封,可以有效地降低量子点氧化失效的可能性,从而避免 Mini-LED 背光模组产生边缘蓝光现象。 发明专利《直下式发光装置》提供直下式发光装置的制作方法,通过利用内设中空结构、外设微光扩散结构的光学透镜技术,可以有效地解决亮暗不均及光斑问题,从而得到出光均匀的发光装置,并且提高了光的利用效率。本发明可以用于 Mini-LED/Micro-LED 显示技术中。 发明专利《一种 mura 补偿的直下式 Mini-LED 背光模组》提供一种 mura 补偿的直下式Mini-LED 背光模组,通过设置半透反射膜和微透镜结构面,从而达到光线的多次反射的效果,进而消除灯斑(mura),以实现 Mini-LED 背光模组有效地均匀出光。 查询进一步信息,请访问官方网站http://www.blbgy.com。(Donna Zhang,张底剪报) (完)
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