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苏大维格自主研发光刻机2021年已取得572项专利授权
2022/4/28 15:03:58     

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【产通社,4月28日讯】苏州苏大维格光电科技股份有限公司(SVG Optronics;股票代码:300331)2021年年度报告显示,其通过自主研发微纳光学关键制造设备——光刻机,建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系,为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。微纳光学技术系光学理论、工程应用、光学检测、微纳结构设计、软件开发、自动化控制、数字图像处理、精密机械制作等多方面技术的综合,需要多领域专业人才协同合作,充分发挥团队力量,才可能实现从各技术点到核心综合技术的飞跃。

公司在微纳光学产品技术研发与制造领域位居国内领先地位,行业领先地位的取得源于公司持续的自主创新。陈林森作为全国纳米技术标准化技术委员会委员、中国光学学会全息与光信息处理专委会主任和国家重大科学仪器设备专项首席专家,其领导下的研发团队在前瞻性和应用性技术研究方面有着丰富的经验,持续创造出先进的研究成果,使公司在微纳光学制造关键技术方面独树一帜。

截至2021年12月31日,公司已取得572项专利授权,其中发明专利147项,实用新型专利381项,外观设计专利44项。基于光刻设备控制软件的研究,公司设计开发了一系列专业光刻与图像处理软件。

查询进一步信息,请访问官方网站http://www.svgoptronics.com。(Donna Zhang, 张底剪报)     (完)
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