【产通社，12月5日讯】中微半导体设备有限公司（Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.；股票代码：688012）官网消息，其于2021年11月02日迎来了一个重要的里程碑：中微公司的电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第1500个反应台顺利付运国内一家领先的半导体制造商。本次交付的Primo D-RIE刻蚀设备反应台来自该客户的重复订单。

Primo D-RIE刻蚀设备被全球领先的芯片制造商用于制造存储和逻辑器件。客户非常看重该设备在大规模生产中稳定可靠的性能表现、显著提升的生产率和相对较低的生产成本方面的优势。为优化产量而设计，Primo D-RIE可以配置多达三个双反应台反应腔，每个反应腔既可以独立操作，又可以同时加工两片晶圆。此外，该设备的突出特点还包括：中微公司具有独立自主知识产权的甚高频和低频混合射频去耦合反应等离子体源、等离子体隔离环、用于控制腔体内反应环境的先进工艺组件。

自2007年Primo D-RIE发布以来，中微公司陆续拓展了CCP刻蚀设备产品线，以满足客户日益严苛的技术需求。除Primo D-RIE双反应台刻蚀设备以外，CCP刻蚀设备系列还包括双反应台刻蚀设备Primo AD-RIE、单反应台刻蚀设备Primo SSC AD-RIE、Primo HD-RIE和刻蚀及除胶一体化的Primo iDEA。

这些产品为客户提供了全面综合的设备解决方案，用于5纳米及以下工艺的多种应用。中微公司的刻蚀设备产品线还包括其他两款电感耦合低能等离子体（ICP）刻蚀设备和硅通孔（TSV）刻蚀设备。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.amec-inc.com。（张怡，产通发布）    （完）