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Unichip创意电子GLink-3D DoD接口IP采用台积电5nm制程
2021/5/31 9:28:54     

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【产通社,5月31日讯】创意电子(Global Unichip Corp.;台湾股票代码:3443)官网消息,其GLink-3D晶粒叠晶粒(Die-on-Die, DoD)接口IP将采用台积电的5nm、6nm制程以及3DFabric先进封装技术,为人工智慧(AI)、高效能运算(HPC)和网络(Networking)应用打造全方位3D解决方案。


产品特点


人工智能、高效能运算和网络应用对存储器需求正在快速增长,而SRAM与逻辑单元的面积比率也与日俱增。从7nm微缩至5nm和3nm制程节点时,逻辑单元的密度和效能均有所提升,但是SRAM则变化不大。将SRAM与逻辑单元去整合化之后,就能在效率最高的制程节点上分别设计所需的SRAM和逻辑单元。只要使用台积电的3DFabric封装技术,即可在互连和I/O晶粒的上方或下方,堆栈多层CPU和SRAM(快取、封包缓冲区)晶粒。能够实现这种可扩充的SRAM和模块化运算应用,靠的就是创意电子GLink-3D的高频宽、低延迟、低功耗,以及3D堆栈晶粒之间的单点对多点接口。CPU、SRAM和I/O(SerDes、HBM、DDR)晶粒可分别在效率最高的制程节点中导入,只要堆栈组装不同的晶粒组合,即可满足不同市场区隔的需求。系统启动时除了会识别已堆栈组装的SRAM和CPU晶粒,同时也会分配每一晶粒ID,定义可用的存储器空间和运算资源,并启用与堆栈晶粒相连的单点对多点GLink-3D接口。 

台积电的3DFabric SoIC平台技术可进一步提升连接效率,相较于同类最佳的2.5D接口GLink 2.0(已于2020年12月设计定案),GLink-3D的频宽密度提高6倍、延迟降低6倍,功耗则降低2倍。多个3D堆栈晶粒可以透过GLink-2.5D互连并使用CoWoS和InFO_oS封装技术,即可与HBM存储器组装在一起。  

GLink-3D的主要特点:
- 支援台积电5nm和6nm制程节点的系统整合芯片(SoIC)堆栈;
- 单点对多点接口,可让主晶粒同时与多个堆栈晶粒相连;
- 稳健的全双工流量(每平方毫米9Tbps);
- 速度:每通道5.0Gbps;
- 极短的端对端延迟(<2ns)和低功耗设计(<0.2pJ/bit);
- 单一电源电压75V±10%。


供货与报价


查询进一步信息,请访问官方网站http://www.guc-asic.com。(张怡,产通发布)    (完)
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