【产通社，4月13日讯】深圳清溢光电股份有限公司（Shenzhen Qingyi Photomask Limited；股票代码：688138）2020年年度报告显示，其主要产品为掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游行业生产流程的关键模具，是下游产品精度和质量的决定因素之一。

报告期内，公司主要研发成果有7项：
1）5代多栅（Multi-slit）产品关键技术研发项目研发成功，项目完成5代多栅（Multi-slit）产品关键技术研发；
2）复杂图档的处理方法研发项目研发成功，达到设计文件的优化，缩小了图档的数据量，提升了Mask复杂图档的CAM处理效率；
3）CD条状渐变补偿MASK制作项目研发成功，实现对8.5代以下平板显示图形，STEP 可低至0.5mm以下的CD渐变处理，用于补偿Lens MURA, 提升平板显示用掩膜版产品的品质及良率；
4）8.5代HTM工艺项目研发成功，掌握HTM掩膜版技术并通过客户认证；
5）高精度IC掩膜版修补机安装运作项目研发成功，掌握了高精度IC掩膜版的修补技术；
6）520*800 5代a-Si用 COM-ITO Mask 产品开发项目研发成功，掌握了520*800 5代a-Si用 COM-ITO Mask 工艺技术；
7）半导体芯片、系统级封装、MicroLED芯片用掩膜版技术的研发升级，提升了公司半导体芯片及系统级封装、MicroLED芯片用掩膜版产品的技术能力。

2020年，公司通过国家高新技术企业复审。申请国家发明专利6件，实用新型2件，软件著作权2件；新获授权发明专利2件，实用新型2件，软件著作权2件。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.supermask.com。（Robin Zhang，张底剪报）    （完）