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上海华力微电子半导体器件制造方法发明类专利获奖
2020/7/25 14:58:02     

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【产通社,7月25日讯】上海华力微电子有限公司(Shanghai Huali Microelectronics Corporation)官网消息,其于4月26日世界知识产权日捧回了上海市知识产权局颁发的首届上海市知识产权创新奖奖牌。

华力发明类专利“半导体器件的制造方法(ZL201310122105.X)”在首届上海市知识产权创新奖的评选中斩获殊荣。这既是对华力知识产权工作的肯定,也标志着华力知识产权工作经过十年如一日的持续发力迈上了一个新的台阶。

上海市知识产权创新奖每三年评选一届,是上海市人民政府与世界知识产权组织共同签署《关于在知识产权领域发展合作的谅解备忘录的补充协议》后设立的重要奖项。2019年上海市开展首届知识产权创新奖的评选活动,各区知识产权局共推荐参选专利、商标项目227件,最终仅45件专利(包含发明、实用新型、外观设计)与商标成功入围奖项,其中,获奖的发明类专利仅23件。

华力也是获奖申请人中唯一的集成电路代工企业。2020年第一季度,华力共收到各技术部门专利提案近四百件;在做好安全防护的前提下组织开展多场专利评审会,对总计二百多件专利提案进行了内部评审,评审通过的专利提案绝大部分来自研发部门;已获国内专利授权五十余件,更有多件专利获得海外授权;还加大了先进工艺专利特别是28-14纳米及以下的先进工艺专利的申请及海外布局。

查询进一步信息,请访问官方网站http://www.hlmc.cn。(Robin Zhang, 365PR Newswire)    (完)
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