【产通社，5月23日讯】上海微电子装备有限公司（SMEE）官网宣布，其高亮度LED步进投影光刻机从1200多个申报项目中成功突围，入选“上海设计100+”。
 
该高亮度LED步进投影光刻机面向6英寸以下中小基底，是中国首台先进光刻应用领域的光刻机产品，可满足HB-LED等领域单面或双面的光刻工艺需求，解决了LED产业大翘曲蓝宝石高分辨率、高拼接精度、大焦深、高产率的光刻需求，且支持蓝宝石键合片特殊工艺。自产品问世以来，先后荣获“第十五届中国国际工业博览会铜奖”、“上海市专利新产品”、“第十三届（2018年度）中国半导体创新产品和技术奖”、工信部第四批“制造业单项冠军产品”等荣誉。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.smee.com.cn。（robin, 张底剪报）    （完）