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Cadence与联华电子合作开发28纳米HPC+工艺的认证
2019/8/12 22:12:59
【产通社,8月12日讯】联华电子股份有限公司(United Microelectronics Corporation;NYSE股票代码:UMC;TWSE股票代码:2303)官网消息,Cadence AMS芯片设计流程已获得联华电子28纳米HPC+工艺的认证。透过此认证,Cadence和联电的共同客户可以于28纳米HPC+工艺上利用全新的AMS解决方案,去设计汽车、工业物联网(IoT)和人工智能(AI)芯片。 此完整的AMS流程是基于联电晶圆设计套件(FDK)所设计的,其中包括具有高度自动化电路设计、布局、签核及验证流程的一个实际示范电路,让客户可在28纳米的HPC+工艺上实现更无缝的芯片设计。
Cadence AMS流程结合了经客制化确认的类比/数位验证平台,并支持更广泛的Cadence智能系统设计?策略,加速SoC设计的卓越性。AMS流程具有整合标准组件数字化的功能,非常适合数位辅助类比的设计,是客户使用28纳米HPC+工艺,开发汽车、工业物联网和AI应用的理想解决方案。
经过认证的完整AMS流程包括Virtuoso仿真设计环境(ADE),Virtuoso图形编辑器,Virtuoso布局套件,Virtuoso空间基础绕线器,Spectre平行加速仿真器(APS),带有整合Xcelium平行逻辑仿真引擎的Spectre AMS Designer,Voltus-Fi客制化电源完整性解决方案,Innovus实施系统,Quantus寄生效应萃取解决方案和物理验证系统(PVS)。
该流程提供以下内容:
- 前端设计:提供控角、统计和可靠性模拟; 电路和组件检查,以及类比和混合信号仿真和验证管理。
- 客制布局设计:提供先进的电迁移和寄生感知环境,包括图形驱动布局和模块生成、线编辑器和引脚到主干的布线、符号置放、电子感知设计和压敏规则。
- 后布局的寄生模拟和电迁移及电位降(EM-IR)分析与整合签核:包括寄生组件参数撷取,电路布局规则检查(DRC)和电路布局验证(LVS)检查。
- 混合信号OpenAccess:在单个OpenAccess设计数据库上运行的Virtuoso和Innovus平台之间实现完全互动能力,使混合信号设计人员能够直接在Virtuoso环境内使用Innovus工具,且能无缝地执行数字区块的实作。
联华电子量产就绪的28纳米HPC+工艺采用高介电系数/金属闸极堆栈技术,广泛支持各种组件选项,以提升弹性及符合效能需求,同时针对多样的产品系列,例如应用产品处理器、手机基频、Wi-Fi,数字电视/机顶盒,毫米波等具备高介电系数/金属闸极堆栈及丰富的组件电压选项、内存字节及降频/超频功能,有助于系统单芯片设计公司推出效能及电池寿命屡创新高的产品。
查询进一步信息,请访问官方网站
http://www.umc.com
,以及
http://www.cadence.com/go/UMC28HPCp
。(Lisa WU, 365PR Newswire)
(完)
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