【产通社，4月25日讯】上海新阳半导体材料股份有限公司（Sinyang Semiconductor Materials；股票代码：300236）2017年年度报告显示，其本报告期研发投入总额39,510,488.88元，占本期营业收入的比重为8.37%。在产品研发方面主要集中于干法蚀刻清洗液、凸点电镀添加剂、干膜剥离液、大马士革电镀添加剂、氟碳粉末涂料等项目，其中干法蚀刻清洗液项目取得了突破性的进展。

2017年申请专利19件，其中发明专利18件，实用新型1件；授权专利11件，其中发明专利10件，实用新型1件。2016年上海新阳承担的国家科技重大02专项 “20-14nm先导产品工艺开发”任务之一“20-14nm铜互连电镀工艺技术及产品的研发”的课题研发任务，课题相关研究工作按照计划进行中，部分相关产品已经在客户现场进行测试和验证。项目执行期3年，该任务的实施为公司在目前国内集成电路先导产品工艺开发做好技术储备。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.sinyang.com.cn。（robin, 张底剪报）    （完）