【产通社，3月19日讯】应用材料公司（Applied Materials；NASDAQ股票代码：AMAT）官网消息，其SEMVision系列是目前最领先的缺陷检测和分类技术最新产品，将助力尖端存储和逻辑芯片的制造商提升生产力。最新的SEMVision G7系统，是目前市面上唯一具有高分辨率缺陷成像，以及经生产验证、具有先进机器学习智能的DR-SEM*系统。它有助于芯片制造商更快对缺陷进行分类，找出根本原因并解决良率问题。

应用材料公司副总裁兼工艺诊断及控制事业部总经理Ofer Greenberger表示，“由于将日趋复杂的新设计投入生产的难度越来越大，芯片制造商正在寻找加快产品面市和实现最优良率的方法。SEMVision G7系统进一步拓展了成像能力，可以对关键缺陷进行检测，包括在晶圆边缘斜面和侧面位置。这些地方的缺陷若未能及时发现，可能会导致芯片的良率下降。利用全新机器学习算法进行实时自动分类和缺陷分析，可以确保精准和一致的工艺控制，加速提升芯片制造商实现稳定的生产工艺。”


产品特点


SEMVision系列是扫描电子显微缺陷检测系统（defect review scanning electron microscope, DR-SEM），是目前市面上唯一具有高分辨率成像，以及经生产验证的、具有先进机器学习自动缺陷分类（automatic defect classification, ADC）能力的系统。

除了独特的晶圆边缘斜面和侧面位置的成像能力之外，SEMVision G7还改进了无图案晶圆的光源和收集系统，实现了18nm缺陷的光学检测。无图案晶圆上的缺陷识别和表征，为芯片制造商提供了表面形貌和材料等信息，可以帮助确定缺陷的来源并用更快的时间进行纠正。

Purity II技术，是业内唯一经全面生产验证的Purity ADC的技术。此项技术拓展了SEMVision G7系统的机器学习能力，使它能够学习工艺变更情况，并在运行过程中调整自动统计分类引擎。全新的机器学习能力将工程设计数据与SEM图像结合起来，能产生基于位置的缺陷分类，实现更准确的环境情况输入，且加速根本原因的分析。全新的缺陷提取算法，能够优先分拣出在分类引擎中预定义的缺陷，确保至关重要的缺陷能够先被突出与显示出来。

通过使用机器智能学习实现快速准确的自动缺陷检测和根本原因分析，Purity II ADC能够加快工艺提升并实现卓越的良率管理。


供货与报价


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