【产通社，11月16日讯】Gigaphoton株式会社消息，为提高设备的工作效率，其制定新的产品规划图，以应对需求量不断高涨的半导体厂家的要求。此次制定的产品规划图“RAM Enhancement”加强了DUV光源受激准分子激光器的可靠性（Reliability）、可用性（Availability）以及可维护性（Maintainability）。公司已经开始行动，将在2020年前打破被业界定位为极限的“工作效率99.8%的壁垒”。

在半导体芯片生产中，光刻工序的工作效率是最大的影响要素。因此，为最大限度地提高设备的工作效率，必须保证“长期稳定的工作”，以及“最短的维修时间”。Gigaphoton为解决这些问题，将延长模块寿命，派遣现场工程师提高设备的服务性能，实现尽可能不停止设备运转的维修。

首先，为保证“长期稳定的工作”，将最新ArF液浸光刻装置的主要模块，包括腔体（AMP CH）、窄带域模块（LNM）、监视模块（MM）的寿命分别延长到120Bpls。其次，为实现“最短的维修时间”，将追加预测装置寿命及自动计算维修时点的软件。

通过这一系列的措施，截止2020年，面向所有客户的必要维修次数将降低到每年一次，模块更换时间减少到原来的一半，可望打破工作效率99.8%的壁垒（假定内存芯片厂家的脉冲使用量为每年60Bpls）。

查询进一步信息，请访问官方网站http://www.gigaphoton.com。    （完）