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深圳路维光电已获得23项光刻掩膜版国家级专利

2017/10/10 21:04:02

【产通社，10月9日讯】深圳市路维光电股份有限公司（Shenzhen Newway Photomask Making Co., Ltd；NEEQ股票代码：833550）2017年半年报显示，其从事光刻掩膜版的研发、生产和销售，产品包括高精度铬版、干版、菲林、APR版等，主要应用于平板显示、触摸屏、集成电路、FPC等行业。至今为止，公司获得了23项国家级专利，另有7项在公示中。

查询进一步信息，请访问官方网站

http://www.newwaymask.com。（完）

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