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海力士54纳米1Gb DDR2 DRAM获Intel认证
2007/11/24 12:25:26     海力士-意法半导体

(产通社,11月23日讯)海力士采用的54纳米技术的1Gb DDR2 DRAM,11月获得了美国Intel公司的认证,从而证明了公司的尖端技术能力和成本竞争力。

此次获认证的54纳米1Gb DDR2 DRAM,采用了三维晶体管架构和WDPG技术,不但减少耗电,还大大提高了运行速度。与现正批量生产的66纳米工程相比,可增加50%的产能。新采用的这些技术还将扩展应用至1Gb DDR3 DRAM产品中,届时,它将于1Gb DDR2 DRAM和DDR3 DRAM产品一起,于明年下半年开始正式批量生产。

海力士获得的此次认证,意味着产品的超高速性能和低耗电特点得到正式验证和强化,计划将之扩展应用于大容量PC DRAM、Graphic DRAM及Mobile DRAM等各种高附加值产品中去,从而可提高产品的竞争力,以满足市场今后不断增加的需求。

海力士认为,以54纳米技术来制造的1Gb DDR2 DRAM获得认证,意味着海力士尖端技术能力和成本竞争力再次得到证实,使800Mbps(每秒处理800Mb的数据)超高速产品的批量生产成为可能,因而具有重大的意义。
 
查询进一步信息,请访问http://www.hynix-st.com

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