【产通社，2月23日讯】Gigaphoton株式会社消息，其新发布的GT65A液浸曝光（光刻）装置专用ArF准分子激光器，可实现最先进的液浸曝光处理的细微化支持和减少对环境的影响。Gigaphoton计划以GT65A为代表，参展自2月26日（美国时间）起到3月2日于美国加利福尼亚州圣何塞市举办的先进曝光国际论坛（SPIE Advanced Lithography 2017）。

Gigaphoton董事长兼总经理都丸仁说：“本公司的新产品GT65A是Gigaphoton为不断向细微化发起挑战的半导体设备行业提供的解决方案之一，同时也是本公司成立以来对业界不变的承诺以及对曝光机生产厂商所做贡献的证明。我们今后仍将一如既往地持续对提高曝光性能的专用技术进行投资。”


产品特点


GT65A对Gigaphoton的ArF平台的特征——卓越的频谱控制技术进行了进一步升级换代，支持1X nm（纳米）以下的细微化工艺，并且依照标准配置了减少对环境影响的技术以及该公司的氖气回收设备——“hTGM”，此设备在任何运转条件下均可进行无氦运转。

在GT65A的频谱控制方面依照标准配置了两项最新技术。其中之一就是eMPL Solid。与以往的机型相比，eMPL Solid的频谱性能的稳定性提高了4倍，每个曝光区域均以±5fm（飞米）的高水平实现了频谱宽度（E95）的稳定性，为CD均匀性的提高做出了贡献。另外一种最新技术hMPL，它可以将频谱宽度控制在450-200fm的范围内，依照工艺流程对频谱宽度进行了优化，为工艺窗口的最大化做出了贡献。

另外，GT65A依照标准配置的无氦及hTGM技术是采用Gigaphoton的EcoPhotonTM程序开发的，不仅能够减少对环境的影响，还可以大幅减少将来氦气和氖气的短缺及价格风险，为客户的可持续发展做出贡献。


供货与报价


ArF准分子激光器将于2017年内上市。查询进一步信息，请访问官方网站http://www.gigaphoton.com，以及http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography。    （完）