 【产通社,12月11日讯】Gigaphoton株式会社消息,其使用半导体光刻用受激准分子激光器,成功开发出用于退火工艺的新型KrF受激准分子激光器,并且已经于11月通过面板生产商的批量生产线开始进行评估。 Gigaphoton公司董事长兼总经理兼CEO都丸仁先生表示:“本公司已将所开发的新型新KrF受激准分子激光器列入“GIGANEX”系列的产品阵容,希望可以满足更多客户的需求。“GIGANEX”系列产品今后将会继续为FPD行业等各种领域提供有价值的解决方案。” 产品特点 KrF受激准分子激光器属于GIGANEX品牌,为600W的高输出功率,将作为退火用光源使用。对于高画质大型面板有着越来越严苛要求的国内外面板生产商对本产品寄予了极大的期待。 GIGANEX是Gigaphoton公司运用迄今为止通过半导体光刻所积累的高超的技术能力开发的新型受激准分子激光器的总称,面向FPD生产、挠性设备生产工序、光刻以外的半导体生产等领域,与共同推进技术革新的伙伴一起,进一步探索受激准分子激光器的可能性,不断地为客户提供有价值的解决方案。 供货与报价 Gigaphoton公司预计于2017年夏天将批量生产的本产品推向市场。查询进一步信息,请访问官方网站 http://www.gigaphoton.com。 (完)
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