在全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术及创新方面处于领先地位的罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部近日宣布其IC1000研磨垫产品线又增添了两大生力军。这两款新品应用了先进的沟槽技术，可有效降低量产缺陷率和设备拥有成本。 

IC1000 AT低缺陷率研磨垫（IC1000 AT Defect Reduction Pad）采用已获专利的新型沟槽设计。该技术是对晶圆级和沟槽级流体力学原理的最佳应用，可有效减少产品缺陷率。常数区沟槽可消除晶圆所承受的局部压力，最大程度地减少晶圆被划伤或产生缺陷的可能性，在200及300毫米平台作业时最高可降低50％的缺陷率。IC1000 AT低缺陷率研磨垫专为无意改变研磨垫材料，但对降低产品缺陷率有迫切需求的客户设计。

IC1000 AT长寿命研磨垫（IC1000 AT Long Life Pad）可有效降低设备拥有成本，延长工具的正常运行时间。该研磨垫经过特别设计，硬度适中，可确保合适的研磨液流量，并能在不增加研磨液消耗的情况下提供稳定的性能。此外，其最优化的沟槽设计可延长30%的使用寿命，确保用户在进行各种设备量产时获得更低的整体成本和更高的产量。

“这次推出的两款研磨垫，丰富了我们原有的IC1000研磨垫产品线，满足了90纳米以下级别半导体设备制造商不断变化的生产需求，”罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部副总裁Cathie Markham表示。“我们并未使用其他新型研磨垫材料，而是通过先进的设计使这两款新型研磨垫具备更长的使用寿命和更佳的性能。低缺陷率研磨垫通过应用具有突破性的沟槽技术大幅降低了产品缺陷率，而长寿命研磨垫则为用户提供了极具竞争力的成本优势。”

罗门哈斯电子材料公司为光电行业开发和提供创新材料解决方案及工艺，其产品及技术主要应用于电路板、半导体制造及先进封装行业，并已成为全球电子设备的重要组成部分。详情请登陆http://electronicmaterials.rohmhaas.com。