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ASML财报:浸没光刻,宏观压力,获利衰退
2008年7月20日  产通学院,365PR  

(产通社,7月16日)欧洲最大半导体设备制造商ASML Holding NV日前公布了第2季财报:芯片业者延期扩产计划使设备出货量下滑,导致税前获利骤减27%,同时调降今年营收预估。

ASML在声明中表示,季度税前营运获利减至1亿5720万欧元 (2亿5020万美元),销售衰退9.3%至8亿4420万欧元。

ASML表示,将会把浸没式光刻技术(Immersion Lithography)发展到极限,其新型TWINSCAN XT:1950i设备性能提高了25%,能使亚40nm芯片批量成像。

ASML是全球第 3大半导体设备业者,仅次于美国应用材料(Applied Materials Inc.)与日本的Tokyo Electron Ltd.。

    
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